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■講演会の概要
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| 日時： |
2009年7月27日(月) 13:00〜15:00 |
| 会場： |
東京・品川区大井町 きゅりあん 5F 第4講習室
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※急ぎのご連絡は(株)メガセミナー・サービス(TEL06-6363-3359)まで！！
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受講料：
(税込) |
(税込) 15,750円
⇒E-mail案内登録会員
14,950円（ネットからお申し込みの方、全員）
※資料付 |
《短時間集中・特別受講料セミナー》
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※E-mail案内登録会員価格以外の各種割引とは併用できません。 |
| 講師： |
ダイセル化学工業(株) 知的財産センター
ライセンスGr.兼知的財産戦略Gr.
主席部員 菅野 龍也 氏
【講師紹介】
1981年 筑波大学化学研究科 理学博士
同年 ダイセル化学工業入社 総合研究所に配属
1983年-1985年 ヒュルス AG(ドイツ) 中央研究所交換研究員(現在、エボニック)
1986年 以後 一環して高分子合成技術の開発に従事
・光磁気デｨｽｸ基板の開発
・溶融エステル交換法ポリカーボネートの開発
・高剛性透明スチレンの開発
1996年 高分子事業企画室
2000年 総合研究所 革新技術センター
2002年〜 知的財産センター東京 |
| 主催： |
サイエンス＆テクノロジー株式会社
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■講演会のプログラム内容 |
＜趣旨＞
ボーダーレス化した中で、日本企業は自社開発した技術を公開して特許権を取得するか、又はノウハウとして社内に秘匿するかの判断を迫られています。独占的
排他権である特許権を取得する場合は、外国にも出願して権利化し国際的特許網を構築することにより効果的な知的財産の保護を図ることができます。
一方、ノウハウとして秘匿する場合は、発明の実施である事業又は事業の準備が立証できれば、その後、他社(他者)が特許権を取得したとしても、無償の通常実施権が得られ、事業を継続的に実施できます。このような先使用権については、主要な国の特許法に規定されています。
しかしながら、特に、先使用権をどのように立証すれば、先使用として認定されるのか明確になっていないのが現状です。今回紹介する弊社のノウハウの保護に関する取り組みがノウハウを管理する方々の一助になれば幸いです。
＜受講した際の達成する目標・レベル＞
１．保護の是非判断ができる
２．保護の対象を明確にできる
３．技術ノウハウの公的保護ができる
４．日頃から技術文書の管理ができる
１．知財センターの位置づけ・役割・係わり
２．技術ノウハウ管理の着眼点
2.1 特許とノウハウの峻別
３．先使用権制度
3.1 特許庁の解釈
４．技術ノウハウ保護の留意点
4.1 公証制度の活用
4.2 弊社の技術ノウハウマネージメント
５．技術ノウハウ保護の具体的手法(１)
5.1 電子記録媒体の活用事例
5.2 私署認証
６．技術ノウハウ保護の具体的手法(２)
6.1 先使用権立証のタイミング
6.2 先使用権立証のための資料の収集
７．先使用権立証の判決例
８．知的財産に関する社内啓蒙
□質疑応答・名刺交換□ |
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